OTSUKA大塚電子廣州代理，OTSUKA廣州代理，.，OTSUKA大塚電子廣州代理 厚度監(jiān)控器FE-300藤野貿(mào)易供應(yīng)日本OTSUKA大塚電子厚度監(jiān)控器FE-300藤野貿(mào)易供應(yīng)日本OTSUKA大塚電子厚度監(jiān)控器FE-300藤野貿(mào)易供應(yīng)日本OTSUKA大塚電子厚度監(jiān)控器FE-300藤野貿(mào)易供應(yīng)日本OTSUKA大塚電子厚度監(jiān)控器FE-300藤野貿(mào)易供應(yīng)日本OTSUKA大塚電子厚度監(jiān)控器FE-300藤野貿(mào)易供應(yīng)日本OTSUKA大塚電子 特 長(zhǎng)
薄膜から厚膜の幅広い膜厚に対応 反射スペクトルを用いた膜厚解析 コンパクト?低価格でありながらも非接觸?非破壊で高精度測(cè)定を?qū)g現(xiàn) 條件設(shè)定や測(cè)定操作が簡(jiǎn)単！どなたでも手軽に膜厚測(cè)定が可能 非線形最小二乗法、最適化法、PV法、FFT解析法などによって幅広い種類(lèi)の膜厚測(cè)定が可能 非線形最小二乗法の膜厚解析アルゴリズムにより、光學(xué)定數(shù)解析（n：屈折率、k：消衰計(jì)數(shù)）が可能
測(cè)定項(xiàng)目
絶対反射率測(cè)定 膜厚解析解析（10層） 光學(xué)定數(shù)解析（n：屈折率、k：消衰計(jì)數(shù)）
用 途
機(jī)能性フィルム、プラスチック
透明導(dǎo)電膜（ITO、銀ナノワイヤー）、位相差フィルム、偏光フィルム、ARフィルム、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、接著剤、粘著剤、プロテクトフィルム、ハードコート、耐指紋剤など 半導(dǎo)體
化合物半導(dǎo)體、Si、酸化膜、窒化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、 SOI、Sapphire、など 表面処理
DLCコート、防錆剤、防曇剤、など 光學(xué)材料
フィルタ、ARコート、など FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI）、OLED（有機(jī)膜、封止剤）、など その他
HDD、磁気テープ、建材、など 測(cè)定原理
大塚電子では、光干渉法と自社製高精度分光光度計(jì)により、非接觸?非破壊かつ高速高精度な膜厚測(cè)定を可能にしています。光干渉法は、図2のような分光光度計(jì)を利用した光學(xué)系によって得られた反射率を用いて光學(xué)的膜厚を求める方法です。図1のように金屬基板上にコーティングされた膜を例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過(guò)した光が基板（金屬）や膜界面で反射します（R2）。このときの光路差による位相のずれによって起こる光干渉現(xiàn)象を測(cè)定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法を光干渉法と呼びます。解析手法は、ピークバレイ法、周波數(shù)解析法、非線形最小二乗法、最適化法の4種類(lèi)があります。
仕 様
型式 FE-300V FE-300UV FE-300NIR *1 全體 標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定タイプ 薄膜測(cè)定タイプ 厚膜測(cè)定タイプ 厚膜測(cè)定タイプ
（高分解能） サンプルサイズ 最大8インチウェハ（厚さ5mm） 測(cè)定膜厚範(fàn)囲
(nd) 100nm～40µm 10nm～20µm 3µm～300µm 15µm～1.5mm 測(cè)定波長(zhǎng)範(fàn)囲 450nm～780nm 300nm～800nm 900nm～1600nm 1470nm～1600nm 膜厚精度 ±0.2nm以?xún)?nèi) *2 ±0.2nm以?xún)?nèi) *2 - - 繰り返し精度 0.1nm以?xún)?nèi) *3 0.1nm以?xún)?nèi) *3 - - 測(cè)定時(shí)間 0.1s～10s以?xún)?nèi) スポット徑 約φ3mm 光源 ハロゲン 重水素とハロゲンの混合 ハロゲン ハロゲン インターフェイス USB 寸法、重量 <280（W)×570（D)×350（H）mm、約24kg ソフトウェア 標(biāo)準(zhǔn) ピークバレイ解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乗法解析 オプション 材料評(píng)価ソフトウェア、ポスト解析ソフトウェア、膜モデル解析、リファレンスプレート
*1 詳細(xì)はお問(wèn)合せください
*2 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の膜厚保証書(shū)記載の測(cè)定保証値範(fàn)囲に対して
*3 VLSI社製膜厚スタンダード（100nm SiO2/Si）の同一ポイント繰り返し測(cè)定時(shí)における拡張不確かさ（包括係數(shù) 2.1）
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科學(xué)儀器：
SANSYO三商，TGK東京硝子，TOYOLING東洋，SIBATA柴田科學(xué)，LUCEO魯機(jī)歐，TGK東京硝子，HEIDON新東，KOKUSAN科庫(kù)森，NITTOKAGAKU日陶科學(xué)，ITOH伊藤，NIKKATO 日陶，KIRIYAMA桐山，KUSANO草野科學(xué)，NISSINRIKA日伸理化，NS恩艾斯
傳感器
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TAKEX竹中，SUGIDEN/SUGIYAMA杉山電機(jī)，GS吉艾斯，TAKASAGO高砂，MATSUNAGA松永，HISHIKO菱小，AIRTECH空氣科技，YAMABISHI山菱
OTSUKA大塚電子廣州代理，OTSUKA廣州代理，.，OTSUKA大塚電子廣州代理藤野貿(mào)易（廣州）有限公司-主營(yíng)FA自動(dòng)化、膠粘材料、油脂材料、機(jī)械設(shè)備、精密儀器、物流搬運(yùn)，工具等產(chǎn)品
藤野貿(mào)易（廣州）有限公司-主營(yíng)FA自動(dòng)化、膠粘材料、油脂材料、機(jī)械設(shè)備、精密儀器、物流搬運(yùn)，工具等產(chǎn)品
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